V laboratoři ve Šen-čen čínští vědci sestavili prototyp stroje schopného produkovat špičkové polovodičové čipy, které jsou klíčové pro umělou inteligenci, chytré telefony a vojenské technologie. Tento prototyp, dokončený na začátku roku 2025, byl vyvinut týmem bývalých inženýrů z ASML , nizozemské společnosti, která je lídrem v tomto odvětví.
Prototyp zaplnil takřka celou výrobní halu a v současnosti prochází testováním. Ačkoliv je operativní a generuje extrémní ultrafialové světlo (EUV), zatím však nevytváří funkční čipy. Cílem čínských autorit je dosáhnout plné výroby do roku 2028, přičemž realistický plán hovoří o roce 2030.
Ačkoliv CEO ASML v dubnu prohlásil, že Čína bude potřebovat „mnoho let“ na rozvoj této technologie, existence tohoto prototypu naznačuje, že Čína může být blíže k dosažení nezávislosti na polovodičích, než se původně předpokládalo. I přesto však čelí velkým technickým výzvám, zejména při replikaci optických systémů.
Jedna z klíčových postav čínské semikonduktorové strategie, Ding Xuexiang, blízký spolupracovník prezidenta Si Ťin-pchinga, válí v čele tohoto tajného projektu. Čína usiluje o to, aby mohla vyrábět pokročilé čipy na strojích vyrobených v Číně, a tím se „100 % zbavila dodavatelů USA“.
V rámci přísně utajovaného projektu se podílejí bývalí inženýři ASML, kteří byli angažováni pod falešnými identitami. To usnadňuje ochranu citlivých informací a zajišťuje, že plány na výrobu čipů zůstávají v tajnosti před zbytkem světa.
V současnosti prototyp čelí výzvám při získávání potřebných optických systémů, přičemž čínské výzkumné instituty vyvinuly alternativy, které tuto technologii umožňují. Cílem je vytvoření plně funkční technologie do několika příštích let, což by mohl znamenat zásadní zlom v globálním trhu s čipy.
